cvd设备工作原理
问题更新日期：2024-10-11 05:32:36
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cvd设备工作原理，在线求解答
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CVD 的基本原理
CVD 是一种气相物质在高温下通过低化学反应而生成固体物质并沉积在基板上的成膜方法。具体的说挥发性的金属卤化物和金属有机化合物等与H2, Ar 或N2等远载气体混合后,均匀的送到反应室的高温基板上,通过热解还原,氧化,水解,歧化,聚合等化学反应
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