cvd金刚石膜的主要制备方法

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CVD金刚石膜技术的出现，是长期以来人类科学文明发展的结晶。经过多年的研究发展，CVD金刚石膜的制备方法形成了以热丝CVD、微波等离子体辅助CVD、电弧等离子体喷射CVD等为代表的三大类。

CVD金刚石是在一定真空度和合适的等离子体气氛及衬底条件下，含碳气体被电离、碳在衬底上沉积形成金刚石膜的过程，称为CVD金刚石膜技术，所得到的金刚石即CVD金刚石。