光刻胶的化学名称是什么

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中文名称：(9H-芴-9,9-二基)双(亚甲基)二丙烯酸酯

光刻胶,又称光致抗蚀剂,具有光化学性,在光的照射下溶解度发生变化,一般以液态涂覆在半导体、导体等基片表面上,曝光烘烤后成固态,它可以实现从掩膜版到基片上的图形转移,在后续的处理工序中保护基片不受侵蚀,是微细加工技术中的关键材料。

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光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。