oled工艺中bp技术流程
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在OLED工艺中,BP(Buried Pattern)技术是用于制造高质量、高分辨率、高亮度的AMOLED显示器的关键技术之一。BP技术是将金属导电线或其他材料隐蔽(即“buried”)到结构中,形成电子元器件的过程。
以下是BP技术的常见工艺流程:
1. 选择基板:通过挑选成本合理、平面度好、电学性能稳定的硅基板,确定生产基板。
2. 预处理:对基板表面进行一系列的清洗和干燥,以保证后续步骤的质量。
3. 形成光阻:将UV感光胶涂覆在基板上,经过曝光、显影,形成具有精确尺寸和形状的光阻模板。
4. 金属沉积:利用化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)技术,在光阻模板上沉积金属薄膜。
5. 架空层设定:通过刻蚀,将多余的金属部分刻掉,形成悬浮于基板上的凸起零件。
6. 形成BP:利用反应离子刻蚀(RIE)或者湿法化学腐蚀技术,将悬浮在基板上的金属部分进行刻蚀,形成Buried Pattern(BP)。
7. 后续步骤:将其他材料堆叠在金属线上,经过未完全固化的粘结和后续热处理,使材料和金属线结合,作为显示器的电路和电路组建。
综上所述,BP技术是OLED制造过程中的一个重要环节,可以制造出像素精度和分辨率更高、电路稳定性强的优质AMOLED显示器。
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OLED的后端制程相对于TFT类要简单很多,主要是COG→FOG→测试→封胶→胶带贴付→二测→QC抽检→包装,
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