磁控溅射镀膜原理
问题更新日期：2024-10-13 13:35:10
问题描述
磁控溅射镀膜原理，麻烦给回复
- 精选答案
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是利用 Ar一02混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下，被加速的高能粒子轰击靶材表面，能量交换后，靶材表面的原子脱离原晶格而逸出，转移到基体表面而成膜。
磁控溅射的特点是成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现大面积镀膜。该技术可以分为直流磁控溅射法和射频磁控溅射法
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