什么是化学浴沉积，原理

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精选答案

化学浴沉积是在宽禁带半导体上直接生长量子点的一种沉积方法，是比较慢的化学反应过程,在CBD沉积中Na2S2O3通常被用来作为硫的供体，有时候也用硫脲来慢慢释放S2-。较之其他的制备方法，CBD方法从性能价格比上来说具有明显的优势，是应用最广泛的生长方法，具有可控性好、均匀性好、成本低等特点。

而且不同的衬底和不同的溶液都可以来制备无机半导体敏化薄膜，而且用化学浴沉积方法制备的薄膜晶粒更紧密，表面更光滑。化学浴沉积是利用一种合适的还原剂使镀液中的金属离子还原并沉积在基体表面上的化学还原过程。与电化学沉积不同， 化学沉积不需要整流电源和阳极。