光刻机的基本原理

问题更新日期：2024-10-14 05:11:51

问题描述

精选答案

光刻机的原理是利用光刻机发出的光，通过具有图形的光罩，对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，使光罩上的图形复印到薄片上，从而让薄片具有电子线路图的作用。

光刻的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。

光刻机就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形。

光刻是集成电路最重要的加工工艺，如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。

其他回答

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光刻机的核心原理就是一个透镜组，在精度上首先咱们有个概念：我们现在芯片的线条精度已发展到10nm级别，而较大的原子直径是将近1nm，我们把芯片放在电子显微镜下即可清晰地数出每个线条上有几个原子，“调节屈光度”是典型的几何光学（初等光学）概念，远远实现不了这个精度。

其他回答

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其工作原理就是首先对硅片涂保护层，一般是氧化层，然后涂光刻胶，通过光刻板有选择地对硅片曝光，然后通过化学手段清除需要清除的部分留下保护层，最后再通过化学手段将没有受到光刻胶保护的氧化层清除得到一个氧化层的保护膜的图形。这就算完成了一次光刻工序。