半导体清洗正确方法

问题描述

精选答案

1.

将半导体浸泡于清洗剂中，在75℃下浸泡90min;

2.

将半导体置于60℃的去离子水中进行超声波清洗，频率为30khz，时间为20min;

3.

用55℃的风吹干，即得清洗后的半导体；