高纯晶硅生产工艺流程
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现有技术生产太阳能级高纯硅的主要方法有三氯氢硅还原法、硅 烷热分解法、冶金法。三氯氢硅还原法也称西门子法,是将工业还原硅与HC1气体合成 制备三氯氢硅,然后利用氯化物的低气化点的特性,进行气化分馏4是 纯,获得高纯三氯氢硅,三氯氢硅在氢还原炉内与氢反应生成气相沉 积硅和HC1气体。该方法生产流程包括硅石还原、硅料预处理、三氯 氬硅合成、三氯氬硅蒸馏提纯、氬还原、硅铸锭或定向生长成多晶硅 或单晶硅。三氯氩硅还原法是目前电子级高纯多晶硅的唯一生产方 法,也是目前太阳能级多晶硅的主要生产方法。但是该方法生产流程 长、工艺复杂、控制难度大,生产中大量强腐蚀性和毒性HC1气体对 装备要求极高,对环境影响大;另外由于生产中的关4建环节一氢还原 三氯氢硅反应转化效率低、反应速度慢。这些因素导致该方法生产效 率低、装备成本投入大、生产危险性高,产品成本高。硅烷热分解法与西门子法有类似之处,不同是它采用四氯化硅氢 化法、硅合金分解法、氢化物还原法以及硅直接氬化等方法制备硅烷(SiH4),对硅烷进行提纯,提纯后的硅烷进行热分解生成硅和氢气
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工业制取高纯单晶硅的步骤如下:
1、首先由石英砂和焦炭在电弧炉中制取纯度较低的粗硅;
2、然后将粗硅转化为有挥发性并易提纯的四氯化硅或三氯氢硅;
3、再用精馏法提纯四氯化硅或三氯氢硅,在电炉中用氢气还原,得到纯度较高的硅;
4、最后用区域熔融法进一步提纯并制成高纯单晶硅。
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