硅片表面污染的类型

问题描述

精选答案

具体来说硅片表面沾污大致可分为三类∶

1、有机杂质沾污∶ 可通过有机试剂的溶解作用，结合兆声波清洗技术来去除。

2、颗粒沾污∶运用物理的方法可采机械擦洗或兆声波清洗技术来去除粒径 ≥0.4 μm 颗粒，利用兆声波可去除 ≥ 0.2 μum 颗粒。

3、金属离子沾污∶ 该污染必须采用化学的方法才能将其清洗掉。硅片表面金属杂质沾污又可分为两大类∶

（1）、沾污离子或原子通过吸附分散附着在硅片表面。

（2）、带正电的金属离子得到电子后面附着（尤如“电镀”）到硅片表面。