刻蚀后光刻胶哪去了

问题描述

精选答案

“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。

蚀刻完成后，光刻胶的使命宣告完成，全部清除后就可以看到设计好的电路图案。