镍钯金和沉金的区别
问题描述
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镍钯金和沉金都是电子制造中的常见工艺,它们的区别主要在于制作过程和用途。镍钯金是一种通过在铜面上沉淀镍、钯和其他金属,形成的一种金属复合层。它的主要作用是提高焊接性能,增强铜面的抗腐蚀性和耐磨性,并且可以防止高温氧化。沉金则是通过化学沉铜方式在铜面上形成一层金层。这种工艺主要用于实现表面贴装,提高连接可靠性,并且沉金可以提供优异的电导性和低表面张力,有利于解决电迁移问题。总体来说,镍钯金和沉金的主要区别在于它们的应用领域和目的。镍钯金主要用于提高铜面的性能和稳定性,而沉金则主要用于实现表面贴装和解决电迁移问题。
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工艺不同
沉镍金工艺:首先在铜面上自催化反应沉积约120-200μ”厚的镍层,再在金缸中通过化学置换反应将金从溶液中置换到镍面,金层将镍层完全覆盖,其厚度一般控制在约1-3μ”。通过时间等控制其厚度上限可高达10μ”。
电镍金工艺:是通过施电的方式,在铜面上通过电化学反应镀上一层约120-200μ”厚的镍层,然后再在镍上镀上一层约0.5-1μ”厚的薄金。通过时间及电流等控制其厚度可高达50μ”以上。
沉镍金通过化学沉积其厚度非常均匀,电镍金通过电镀沉积其厚度均匀性较差。
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