光刻如何提高对比度

问题描述

精选答案

光刻提高对比度通过由最初的明场和暗场对准发展到后来的干涉全息或外差干涉全息对准、混合匹配、由粗略到精细对准技术等。

对准精度也由原来的微米级提高到纳米级，极大促进了集成电路制造业的发展。目前的高精度光刻设备主要采用的对准方式可以分为光栅衍射空间滤波和场像处理对准技术。从对准原理上及标记结构的角度分类，对准技术可以分为早期的投影光刻中的几何成像对准方式，包括双目显微镜对准、场像对准（field image alignment，FIA）等，到后来的波带片对准、干涉强度对准、激光干涉对准（laser interference alignment，LIA）以及莫尔条纹对准方法