光刻工艺与光刻机区别

问题描述

精选答案

光刻工艺与光刻机的区别是技术与工具的区别。

光刻工艺是工程师对所负责的光刻层做工艺参数的设置、优化；对工艺稳定性做日常监测，并及时解决出现的技术问题。一个完整的集成电路制造流程有几十个光刻层，这些光刻层按技术的类似程度分配给光刻工艺工程师，使得他们分别负责一个或者几个光刻层。而光刻机就是指纯机器，用光刻工艺师设计好了的图纸进行加工。

其他回答

邦驰财务

光刻工艺是指光刻产品的一个工序以及程序，而光刻机是主要负责芯片生产的机器