什么是集成电路鸟嘴效应

问题描述

精选答案

在传统的硅的局部氧化（LOCOS）过程中，当氧扩散穿越已生长的氧化物时，它也会在其它方向上扩散。

氧原子纵向扩散进入硅，同时有氧原子横向扩散，这样就造成氮化物掩膜下有着轻微的侧面氧化生长。

由于氧化层比消耗的硅更厚，所以在氮化物掩膜下的氧化生长会将氮化物的边缘抬高。这种现现被称为“鸟嘴效应”。