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紫外光刻技术

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问题更新日期:2024-11-03 08:20:27

问题描述

紫外光刻技术求高手给解答
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即采用光源波长在极紫外波段范围的光刻技术。在空气环境中,光刻技术最具标志性的技术指标分辨率 R=k1*λ*NA,真空中n=1。由此可见,提高分辨率有三种途径,即减小工艺因子k1、减小波长λ、增大数值孔径 NA。根据焦深公式DOF=k2*λ/(NA)2可知,增大数值孔径虽然可以提高分辦率,但也会降低焦深,影响成像效果,因此发展光刻技术最有效的手段为缩短光源波长。

其他回答

常称作EUV光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的紫外线。