euv光刻机中国还缺哪些核心技术

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精选答案

光刻机中国能制造，但是精度不如国外。 中国科学院成都光机所和四十五所，能制造接近接触式光刻机。 上海微电子装备有限公司能够制造投影式光刻机。在LED、IC后道和平板显示的微米级光刻机都有不少销量。IC前道光刻机分辨力要求较高，目前只能制造百纳米或几十纳米级别光刻机，而国外已经推出13纳米的光刻机了。 核心技术包括投影物镜、精密运动台和精密测量系统等。对于最先进的光刻机，关键的镜片、传感器和电机等依靠进口。

其他回答

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euv光刻机共有三大核心技术，一是镜头，二euv光源，

三是同步双工台。现在我国已经突破了28纳米的技术，但28纳米以下的euv光源和镜头还在加紧攻关中。同步双工台已由清华大学和卓科精工研制成功，精度可达14纳米。